スピナー走査法による粉末Ｘ線回折における粒子統計の評価，Table 1

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**Table 1**
スピナー走査法で測定した反射。
*hkl* は反射の指数， m_eff は有効反射多重度， FT₀ は Si のステップ当たり測定時間， FT₁， FT₂, FT₃ は，それぞれ石英 3—7 μm, 8—12 μm, 18—22 μm 粉末試料のステップ当たり測定時間。
Si (NIST SRM640c)			α-石英

hkl	m_eff	FT₀ (s)	hkl	m_eff	FT₁ (s)	FT₂ (s)	FT₃ (s)
111	8	0.5	100	6	1	1	1
220	12	1	101/011	9.85	0.5	0.5	0.5
311	24	2.5	110	6	2	2	2
400	6	3	102/012	8.23	3	2	2
331	24	6.5	111/111	12	5	4	5
422	24	5.5	200	6	3	3	3
333/511	32	12.5	201/021	10.39	5	5	5
440	12	8.5	112/112	12	1.5	1.5	1.5
531	48	18	020/022	9.24	5	5	5
620	24	10	103/013	6.01	12	9	10
533	24	19	211/121	23.72	3	3	3

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